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いいえ

はい

8ヶ月

出願日の前年の新規性猶予期間/優先権は、次の場合に付与されます。

• 開示の原因は、第三者が特許情報を不正に取得したことによるものでした
• 開示は、出願人から直接的または間接的に特許情報を入手した者による守秘義務違反に起因する
• 開示が政府機関または発明の調査において政府によって認可された者によって行われた場合
• 開示は、特許権者または被指名者、両方の元の所有者、または前述のいずれかの同意を得た人物による合理性の公的行使の結果として生じます。
• 最初の開示が 2018 年 12 月 30 日以降に行われた場合、審査前に証拠が提出された場合、1 年間のノベルティ猶予期間:
  • 特許権者または被指名人
  • 特許権者または被指名人の原権利者
  • 特許権者又は被指名人の原権利者の同意を得た者

次の場合、6 か月のノベルティ猶予期間を利用できます。

• 発明者の同意を得て、発明を特定の展示会に出品するか、展示会に使用する
• 上記展示会後の発明の使用または開示

いいえ

いいえ

設計: 5 年間、4 回更新可能、毎回 5 年間、最大 25 年間の保護。

3～5年

はい

8～10年

はい。実用新案は、承認/拒絶の前であればいつでも発明に変更することができ、変更された特許出願は元の出願と同じ出願日を持ち、1 回のみ変更でき、変更手数料が必要です。

ルクセンブルク知的財産庁

英語: ルクセンブルク知的財産庁、略称: OPI

ウェブサイト:経済省 // ルクセンブルク政府 (gouvernement.lu)

ルクセンブルクの発明特許検索: BPP eRegister (public.ws_lu)

1～2年

IPONIGERIA は、意匠の正式な審査のみを行います。

インドの意匠出願の新規性の猶予期間は、開示日から 6 か月です。インド特許法の規定によると、開示の方法は次のとおりです。
- 産業または他の見本市でのデザインの発表
・会期中または会期後の意匠公開
・会期中または会期後に、デザイン所有者の同意なしに第三者によるデザインまたはデザインの説明を表示または公開すること

なし

いいえ

いいえ

クウェート商工省商標・特許課

英語：商工省商標特許局、略称：KPO

URL: MOCI